力集泓光电 成立于2021年,但是实际上我们早在半导体业界深耕多年,也累积了众多的资源,基于业界需求,我们整合了各方资源与优秀技术人才,并逐步建置了一批拥有核心技术,有着相同进步信念的專精人員,希望能够为半导体业界提供好的湿法设备整合化平台!

力集泓光电 成立于2021年,但是实际上我们早在半导体业界深耕多年,也累积了众多的资源,基于业界需求,我们整合了各方资源与优秀技术人才,并逐步建置了一批拥有核心技术,有着相同进步信念的專精人員,希望能够为半导体业界提供好的湿法设备整合化平台!

公司主要的经营目标,主要围绕在半导体&光电产业 相关湿法制程设备,诸如Wet Bench槽式刻蚀清洗设备,Single Wafer单晶圆刻蚀清洗设备,特殊客制化设备,各类供酸/混酸系统,我司能从 设计>工艺整合>品管>制造生产>售后服务 各环节,为客户提供各类完整的服务!

半导体相关技术日新月异中,力集泓光电期待各界人士的指导与建议,在这个平台上,能与客户&合作伙伴们相互惕励,共同成长!